自研光刻機都出來了,國產CPU晶片指日可待

文章推薦指數: 80 %
投票人數:10人

前段時間中心的時間,直接敲響了警鐘。

國產晶片的未來究竟會如何發展?今天在這裡給大家將一款非常重要的技術,讓大家真正地了解到中國晶片的未來發展究竟會是怎樣的。

航空發動機最關鍵的技術核心就是單晶葉片,國產晶片的最尖端科技,也是技術核心就是光刻機。

同樣都是最精尖端的核心技術,航空的發動機,有大幅度的技術提升,而現在國產的晶片卻在經歷著陣痛,它的核心技藝光刻機的發展又將是怎樣的呢?

光刻器的原理,跟正常照相差不多。

只不過光刻機的底片是矽片,而且大小只有指甲蓋那麼大,因而對其的精度要求非常的高。

而目前全球能夠生產出這樣高精度機器的只有三家,分別是AMSL,佳能和尼康。

而其中更是AMSL為產業老大,而且最重要的是,想要攻克晶片的技術,首先就要攻克光刻機的技術,很大程度上它決定了一個晶片能夠體現的最大效能。

為什麼我國的晶片一直令人堪憂,最主要的就是我們沒有攻克光刻機的技術,同時還有一系列跟光刻機有關的配套雙工件台,以及支持研發使用的鏡頭和光源等等一系列技術。

其實是我們一開始是想要靠進口來解決這個問題的,但是人家卻對我們採取了禁售。

因而被逼到了絕路,剩下的只有一條路,就是親自動手研發。

說起來簡單,做起來卻經歷了重重的困難。

光是研究時使用的那種非常頂級的鏡頭,以及為鏡頭專門配備的光源支持設備都難以供應,更別提專門的雙工件台了。

因而想最終做好,我們甚至還得把研發室的工具給研究出來,談何容易啊!13個分系統,整整3萬個零部件機械,這樣的難度想要攻克,可想而知是有多麼的艱難。

但是這並不意味著沒有可能在經歷了重重的困難攻關之後,我們真正的完成了65nm Arf 進行掃描,以及雙工件台光刻機和曝光光源製造的工程。

這是真正的連日本的尼康企業都不看好的雙工件台,而我們卻又再接再厲,已經研發出了90nm和28-65nm光刻機製作時需要的雙工件台。

並且直接依靠這個壯舉,成為了世界上第二個研製出了光刻機雙工件台的國家。

不愧是我的國,可以預見國產晶片的未來,還是十分有前景的。


請為這篇文章評分?


相關文章 

一文看懂光刻機

來源:內容來自「華創證券」,謝謝。半導體晶片生產主要分為 IC 設計、 IC 製造、 IC 封測三大環節。 IC 設計主要根據晶片的設計目的進行邏輯設計和規則制定,並根據設計圖製作掩模以供後續光...

美國將電晶體製程縮減到1nm 中國還能趕上嗎

近年來,晶片製造工藝的進步速度逐漸放緩,適用了20餘年的摩爾定律在新時代下也有逐漸失靈的跡象,從晶片的製造來看,7nm就是矽材料晶片的物理極限。不過據外媒報導,美國勞倫斯伯克利國家實驗室的一個團...