中科院發文：超解析度光刻機來了，10nm製成不遠了

智能設備最核心的就是晶片了，目前應用在智能機、電腦上的晶片，我國基本都是進口的，想要立刻擺脫這一現狀還需要很長的時間，但最近一兩年，我國在晶片領域的進步是飛快的，不僅國家在努力，很多科技企業也紛紛加入其中。

讓我們感到興奮的是，11月30日，中科院之聲微博發文稱：「超分辨光刻裝備項目」通過國家驗收，該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，光刻解析度達到22nm，結合雙重曝光技術後，未來可以用於製造更高級別的晶片。

光刻機是製造晶片的核心裝備，而在這一領域，我國始終處於落後狀態，光刻機的工作原理大致是，通過採用類似照片沖印的技術，把母版上的精細圖形通過曝光轉移至矽片上，理論上講，光刻解析度越高，晶片工藝也就越高。

而我們研發出的光刻設備可以結合雙重曝光技術，這就意味著，22nm僅僅起步階段，未來製造10nm晶片也是可行的，但具體的時間中科院並沒有透露，也許是2年，也許是3年。

「超分辨光刻裝備項目」最大的優勢在於，它可以繞過國外相關智慧財產權壁壘，所以這點要比光刻機本身更有價值，半導體領域設備雖然很難製造，但專利獲取更是難上加難。

不過話說回來，22nm製成對於大型的半導體公司來講已經是輕而易舉的事情了，10nm對於國產晶片廠商來講還是有些難度，所以在真正的10nm晶片還沒有進入市場之前，我們還是不要把期望拉的太高。