重磅！我國研製出世界首台超分辨力紫外光刻機！

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今天下午，由中國科學院光電技術研究所承擔的國家重大科研裝備——超分辨光刻裝備項目在成都通過驗收! 作為項目重要成果之一，中國科學家研製成功世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備，並形成一條全新的納米光學光刻工藝路線，具有完全自主智慧財產權！

據介紹，中科院光電所超分辨光刻裝備項目組經過近7年艱苦攻關，突破了多項關鍵技術，完成國際上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備研製，其採用365納米波長光源，單次曝光最高線寬分辨力達到22納米，結合多重曝光技術後，可用於製造10納米級別的晶片！

超分辨光刻設備核心部件超分辨光刻鏡頭。

中科院理化技術研究所許祖彥院士等驗收組專家一致表示，該光刻機在365納米光源波長下，單次曝光最高線寬分辨力達到22納米。

項目在原理上突破分辨力衍射極限，建立了一條高分辨、大面積的納米光刻裝備研發新路線，繞過了國外相關智慧財產權壁壘。

超分辨光刻設備加工的4英寸光刻樣品。

採用超分辨光刻設備加工的超導納米線單光子探測器。

光刻機是製造晶片的核心裝備，我國在這一領域長期落後。

它採用類似照片沖印的技術，把一張巨大的電路設計圖縮印到小小的晶片上，光刻精度越高，晶片體積可以越小，性能也可以越高。

但由於光波的衍射效應，光刻精度終將面臨極限。

中科院光電所科研人員展示利用超分辨光刻設備加工的超導納米線單光子探測器。

為突破極限、取得更高的精度，國際上目前採用縮短光波、增加成像系統數值孔徑等技術路徑來改進光刻機，但也遇到裝備成本高、效率低等阻礙。

項目副總師胡松介紹，中科院光電所此次通過驗收的表面等離子體超分辨光刻裝備，打破了傳統路線格局，形成了一條全新的納米光學光刻技術路線，具有完全自主智慧財產權，為超材料/超表面、第三代光學器件、廣義晶片等變革性領域的跨越式發展提供了製造工具。

中科院光電所科研人員操作超分辨光刻設備。

據了解，該光刻機製造的相關器件已在中國航天科技集團公司第八研究院、電子科技大學太赫茲科學技術研究中心、四川大學華西醫院、中科院微系統所信息功能材料國家重點實驗室等多家科研院所和高校的重大研究任務中取得應用。

▋來源：解放軍報社裝備發展部分社

▋作者：鄒維榮、呂珍慧

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