好人好股：光刻機概念橫空出世，行業龍頭在這裡

光刻機是晶片的卡脖子技術

近日，《上海市智能製造行動計劃（2019—2021年）》發布，提出在集成電路領域，重點以晶片製造、大矽片製備和封裝測試為主攻方向，推動光刻機、刻蝕機等關鍵技術裝備研製和產業化，提升晶片製造產業鏈的智能化和自主可控水平。

光刻機又叫掩模對準曝光機，光刻系統等，用光來製作一個圖形工藝，將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時複製到矽片上的過程。

半導體製造過程中最複雜也是最難的步驟就是光刻，光刻機也因此成為最重要的半導體製造設備，研發的技術門檻和資金門檻非常高，是全球最複雜的機器之一。

光刻機的很多零件精度都達到了納米級要求，集合了全球最頂尖的科技智慧。

一款頂級光刻機的售價往往在通常在 3 千萬至 5 億美元之間，解析度在七納米至幾微米，單憑一個地區的實力根本做不出來。

ASML 如今是世界上唯一能夠製造 EUV光刻機的廠商，目前最先進的光刻機就是EUV光刻機，每台售價超過1億美元，而且供不應求。

台積電 、英特爾 和三星等半導體三家巨頭也都已經向ASML採購了EUV光刻設備。

2019年起，半導體晶片進入7nm時代開始（現在我們處於10nm時代），台積電和三星都準備量產7納米的EUV工藝，並且明年也會是5納米工藝的一個重要節點。

要知道，在半導體製造的工藝中，最重要而且最複雜的就是光刻步驟，往往光這部分的成本就能占到33%左右，所以半導體想要有突破性的發展，和光刻機的提升密不可分。

研製晶片需要光刻機 但是研製光刻機還需要光刻膠

光刻工藝有兩個重要部分，一個是光刻機、一個是光刻膠。

作為微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料，光刻膠是光刻機研發的重要材料，通俗的解釋是光刻機就是利用特殊光線將集成電路「映射」到矽片表面，而要想在矽片表面的避免留下「痕跡」，這就需要在矽片表面塗上一層特殊的物質，這個物質就是「光刻膠」。

光刻膠不止應用於晶片，而在高端面板、模擬半導體、發光二極體、光電子器件以及光子器件上應用廣泛。

此前，日本政府宣布限制三種日產半導體材料的對韓出口，三種材料中包括半導體製作過程中的核心材料光刻膠。

韓國業內人士表示，日本政府指定的限制出口的材料是生產半導體和顯示器面板所必需的材料。

韓國對日依賴度較高，因此出口限制帶來的打擊將非常大。

在此背景下，國內相關產業鏈公司有望受益。

相關概念股：

光刻膠:

晶瑞股份 : 該公司光刻膠產品已經通過中芯國際 上線測試並取得訂單。

光華科技 : 光刻膠化學試劑+氫氟酸

西隴科學 : 光刻膠化學試劑

南大光電 : 超募資金投資」ArF 光刻膠產品的開發與產業化」項目

飛凱材料 : PCB光刻膠專用化學品

強力新材 : PCB刻膠專用化學品

光刻機:

智光電氣 : 粵芯採購的是荷蘭ASML阿斯麥公司的光刻機。

智光電氣間接持有粵芯半導體股權。

勝利精密 : 勝利精密計劃募資不超過20億元,投向光刻機產業化。

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