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國產光刻機問世！未來10nm國產晶片將出現，徹底繞開國外壁壘！

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由於美國封鎖中興事件的爆發，國內關於"國產晶片"的議論響徹整個2018年。

而要談到半導體晶片領域，所有人都繞不開的重點就是光刻機。

光刻機是生產大規模集成電路的核心設備，製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握。

因此該機器價格昂貴，通常在 3 千萬至 5 億美元。

當下，世界三大晶片代工廠台灣台積電、韓國三星以及美國英特爾每年都會向荷蘭ASML預訂購買幾台最新光刻機，用來改進晶片工藝。

今年上半年，國產企業長江存儲和中芯國際也終於排到隊，以總價值12.3億元的價格向ASML進口了兩台光刻機，可生產20-14nm工藝的3D NAND快閃記憶體晶圓，被稱為是國產晶片的重大階段性進步。

但是，就在近日，我國擁有完全自主智慧財產權的超解析度光刻機終於問世，再也不必受制於國外廠商臉色，以及設置的技術壁壘。

據了解，該國產光刻機是由中國科學院光電技術研究所研製，採用紫外線光源，可以生產22nm級別晶片，未來通過雙重曝光功能，甚至能夠實現10nm級別晶片。

同時，這也意味著在超材料/超表面、第三代光學器件、廣義晶片等變革型領域終於有了屬於我們自己的國產製造設備，實現了跨越式的突破。

當然，國產光刻機的出現並非是一朝一日之功。

在此之前，2002年創立的上海微電子就率先研發出了90nm製程的光刻機，另外，當下全國多所科研院和高校的重大研究任務中都在積極應用超分辨光刻裝備製造的相關器件。

因此，這台國產光刻機的問世乃是舉國上下多年努力的重大成果。

最後，向大家科普一點，半導體晶片所涉及的領域極為廣泛，包括像最新的由台積電生產的7nm工藝華為手機麒麟980移動晶片、還有美光、三星SK海力士等內存/快閃記憶體晶圓、以及各大通信設備中的晶片，它們都是最核心的元器件之一。

過去，只有國外地區才能量產製造，未來，這一局面將會被果斷打破。

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