文章標籤：ASML背後華人提供技術光刻機壟斷全球

ASML背後的華人：因為他提供的技術，ASML的光刻機才壟斷全球

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說起晶片，大家都知道光刻機是晶片製造中的關鍵設備，而荷蘭的ASML是光刻機的龍頭企業，壟斷了中高端光刻機80%以上的市場，至於國內的光刻機較之ASML則差得遠了。

所以大家一說中國芯要發展，光刻機的問題是要解決的。

事實上目前國內在光刻機方面，已經買到了ASML的最新光刻機，這一方面不用太擔心了。

比如中芯國際從ASML採購了一台EUV極紫外線光刻機，可用於生產7nm的晶片。

而華虹半導體從ASML採購了一台193nm雙級沉浸式光刻機，可用於生產14-20nm的NAND快閃記憶體晶片。

但是大家知道麼，ASML之所以能夠在光刻機領域壟斷全球，處於目前的地位，背後一位華為功不可沒，要不是這位華為提供的技術，說不定ASML就未必有今天的成就。

這位華人就是林本堅，越南人，他曾在IBM工作，後面來到台積電工作。

在他之前，光刻機採用的是乾式的，以空氣為介質，而IBM提想用光做為介質，而在台積電工作的林本堅在2006年左右則提出應該以水為介質，做浸潤式的光刻機。

當時ASML只是個落後的小廠，尼康、佳能是大廠採用的是乾式光刻機，而ASML沒辦法，跟著台積電的步子去生產浸潤式的光刻機。

誰知道這個關鍵節點被踩准了，2007年ASML推出了193nm光源的浸沒式系統，在原有光源與鏡頭的條件下，能顯著提升蝕刻精度，一舉壟斷了市場，最後尼康、佳能等由於沒跟上步伐，慢慢的在光刻機領域均落後於ASML。

現在回過頭來看，從2007年開始到現在，基本上所有的晶片都是採用浸沒式光刻系統製造的，後續雖然刻錄機發展為EUV極紫光刻機，但也是以浸沒式光學技術為基礎來的。

所以說林本堅真的是ASML背後的大功臣，而ASML也是在落後的情況下一賭，就賭成功了，否則哪會有今天的地位，至於尼康、佳能等賭錯了方向，自然也就沒落了。

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