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9nm 光刻機難關攻破，國產芯仍在不斷前進

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在我國龐大的電子產業群之下，沒有先進光刻機的支持，必然會約束到我國電子產業的轉型與升級。

縱觀目前全球智慧型手機市場，國產手機陣營基本實現了全球覆蓋，可即便如此，智慧型手機的核心組成部件 - 晶片卻是我國最大的短板。

由於晶片技術的短缺，使得我國科技企業長期以來需要依靠海外進口，這樣一來不但沒有議價權，同時還會面臨著卡脖子的境遇，而中興和華為事件的發生不就正好說明了問題所在。

從現階段來看，包括華為在內的中國科技企業都已經突破了晶片設計的技術瓶頸，但是晶片製造環節依舊是最大的短板，其中，製造晶片的光刻機也成為了重中之重。

目前光刻機領域的平均水平在 14nm 工藝範疇，最先進的則是 7nm 工藝掌握在荷蘭 ASML 手中，其他國家所涉及的光刻機技術還有 9nm 工藝，主要掌握在日本和德國手裡。

目前，包括中芯國際和華虹集團都已經實現量產 28nm 和 90nm 工藝的水平，與 9nm 和 7nm 依舊有著很大的差距。

不過近日中國晶片再傳捷報，國產光刻機拐彎超車，攻克 9nm 技術難關。

根據相關媒體的報導，由我國武漢光電國家研究中心的甘棕松團隊，成功研發出 9nm 工藝光刻機。

此次研發成功的 9nm 光刻機技術與西方不同是，國產光刻機利用了二束雷射在自研的光刻機上突破了光束衍射極限的限制，刻出了最小 9nm 線寬的線段，這是我們獨有的技術，我們也將擁有自主產權。

不過，現階段 9nm 光刻機技術還僅限於試驗階段，但是作為國人的我們有理由相信，在不久的將來，國產光刻機必然會走出實驗室，實現晶片量產。

同時，國產光刻機在技術上的突破在我國晶片發展史上也有著重要意義，畢竟這也代表著我國科技企業在未來可以減少對海外晶片的依賴，從而提高我國在電子產業中地位。

讓中國晶片走向更大的世界舞台。

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