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上海微電子正式宣布，華為晶片將迎轉機，有望打破國外光刻機壟斷

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眾所周知華為在5G技術領域的領先地位為我國國產技術爭光添彩，但是與此同時也引來了美國的擔憂與不滿，為了阻斷華為的發展，他們選擇了晶片這一突破口，先是提出終止為華為供給晶片。

​在此背景下華為海思提出了其研發多年的麒麟系列晶片，華為老總任正非表示感謝美國給了該企業產品一個真正露面的機會，加之與華為有意與台積電達成共贏合作，華為的危機看似解決，然而此次美國再出大招，從台積電享有的改過的集成IC技術入手，中斷了華為與台積電的合作。

華為在此想出應對之策，與中芯國際聯手合作，然而這一渠道也受到了美國的干擾，藉助於光刻機而生事，如今上海微電子正式宣布，華為晶片迎來轉機，有可能打破國外光刻機的壟斷。

縱觀華為與美國的這一對抗，表面看來美國的舉措並未給華為帶來大的影響，華為仍然在順利運營之中，甚至於近期提出了生產基地的修建項目，有條不紊的進行著企業未來的規劃，但是仔細分析，華為在這一對抗之中使用處於被動地位，美國一步步緊緊逼迫，華為卻僅僅是能夠應對而已。

如今華為主要依賴於中芯國際的晶片供應，然而高端光刻機的短缺是其面臨的一大難題。

荷蘭ASML企業受制於美國企業的股份干擾，不能夠為我國提供先進產品。

就在此時，我國上海微電子企業推出了其生產的第一台國產光刻機，使用了ARF技術，完全能夠滿足中芯國際當前的需要。

根據專家介紹，上海微電子推出的這款光刻機能夠精確到11納米晶片的生產，而當前華為所大量需要的主要是14納米晶片的供給。

此外以這一光刻機為基礎，上海微電子還在向7納米的晶片工藝進發，當前的這款光刻機為國產晶片以及光刻機的發展爭取出一定的時間，我們相信踏出第一步之後，該企業擁有7納米的光刻機，更是指日可待。

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