金屬材料變革,中國半導體設備研發方向將受影響

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全球最大半導體設備商應用材料(Applied Materials)於近日宣布,在材料工程上獲得技術突破,能在大數據與人工智慧(AI)時代加速晶片效能。

Applied Materials表示,20年來首樁電晶體接點與導線的重大金屬材料變革,能解除7nm及以下晶圓製程主要的效能瓶頸,由於鎢(W)在電晶體接點的電性表現與銅(Cu)的局部終端金屬導線製程都已經逼近物理極限,成為FinFET無法完全發揮效能的瓶頸,因此晶片設計者在7nm以下能以鈷(Co)金屬取代鎢與銅,藉以增進15%的晶片效能......查看全文請點擊下方「了解更多」


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