中國光刻大突破，10納米晶片打破美國產權壁壘，厲害了！

在今年4月份，中興集團被美國政府制裁，很多中國用戶也發現了中國在科技領域的一大缺陷則是晶片技術。

首先，在晶片技術的研製方面，光刻機作為相當重要的一項核心科技，一直以來被西方技術所壟斷。

也正是因為光刻機技術的壟斷，才讓中國在晶片領域一直以來無法進一步取得成就。

但即便如此，中國的相關科學人員仍然在找尋其他的辦法，來研製出最新最具高性能的光刻技術。

在11月29日，中國科學院宣布了最新的突破。

相關研究人員已經造出了光刻納米技術的世界紀錄，並且這一突破打破了傳統的研究方法，在光刻機的相關技術上開闢了新的途徑。

如今的研究人員表示，已經開發出了能夠雙曝光技術，生產的十納米晶片光刻設備，並且這些測試達到了22納米的世界紀錄。

這一設備是由中國科學院的光學與電子相關研究所的研究人員共同開發出來的。

並且，內部科學家表示，這一項目是為開發高解析度以及大納米的光刻設備來開闢了新的研究方向，從而超越了國外的相關智慧財產權。

光刻設備，一直以來都是晶片領域必不可少的一個環節。

曾經的中國受制於其他的國家，但是如今的中國在該領域開始崛起，光刻解析度能夠提高晶片的集成度，但是傳統的光刻技術卻沒有辦法提高解析度。

這一攻關項目國家啟動於2012年，距今僅僅不到8年時間！

我國研發的這台光刻機，形成了一條全新的超衍射納米光刻從原理、裝備到工藝的技術路線，具有完全自主智慧財產權，為超材料/超表面、第三代光學器件、廣義晶片等變革性戰略領域的跨越式發展提供了製造工具。



重要的是，我國研發的光刻技術，完全是走的新的技術路線，繞過了國外高分辨光刻裝備技術智慧財產權壁壘，實現源頭創新，是世界上首台分辨力最高紫外超分辨光刻裝備。

由此也能看出，這一項新的突破，對於中國晶片領域舉足輕重。

現如今，這一種光學光刻設備已經在上海的航天技術研究所，以及中國電子科技大學等多所高校的項目中被證明是完全有效的。

那麼光刻機是做什麼用的？

用於生產晶片！

光刻機是製造晶片的核心裝備，我國在這一領域長期落後。

它採用類似照片沖印的技術，把一張巨大的電路設計圖縮印到小小的晶片上，光刻精度越高，晶片體積可以越小，性能也可以越高。

在全世界範圍內，能夠做出光刻機的公司只有少數幾家。

而且，目前來說，全世界能生產出最先進的光刻機的企業只有一家——ASML。

光刻機所屬的半導體加工業，目前基本屬於荷蘭和日本所壟斷。

荷蘭有ASML，日本則有尼康，這兩家都是生產光刻機的公司。

但是。

ASML在光刻機的市場份額上占據了八成之多。

最頂尖的光刻機，只屬於ASML，之前其它企業根本沒有辦法做出來。

現在世界上最頂尖的光刻機是EUV光刻機，也就是極紫外線光刻機。

這種光刻機，屬於ASML公司獨家壟斷，所以這一家荷蘭公司將每一台光刻機都賣到了一億美元以上。

但就算ASML公司將每一台光刻機都打出了天價，但其產能還是會在生產之前就被預定一空。

其中，向ASML購買光刻機的公司包括英特爾、三星和台積電等等的國際晶片大廠。

特別是中國的光刻技術完全不同於歐美日路線，伴隨著持續研發，或許我國將在這一領域實現彎道超車，領先世界！這是中國進步路上的又一里程碑！

不知道大家對於中國研究出的這一種光刻機有何看法？歡迎評論。