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IMEC發布一款無接面的環繞式閘極(GAA)納米線場效電晶體(FET)，期望成為7nm節點及其以後的電路備選技術。該研究機構特別在2016年超大規模集成電路技術與電路研討會(VLSI Sympo...

隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產，2018年EUV光刻工藝終於商業化了，這是EUV工藝研發三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規模量產還有很多技術挑戰，目前的光源功率以及晶圓產能輸出還...

據報導，IMEC中國區總裁丁輝文表示，IMEC目前正與合作夥伴攜手開發一個邏輯工藝的研發平台。該研發平台現如今已經已經完成了65納米、45納米、28納米、20納米、14納米、10納米工藝的研發，...

隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產，2018年EUV光刻工藝終於商業化了，這是EUV工藝研發三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規模量產還有很多技術挑戰，目前的光源功率以及晶圓產能輸出還...