分類標籤:更優的所有文章

SOI與finFET工藝對比,誰更優?

1999年,胡正明教授在美國加州大學領導著一個由美國國防部高級研究計劃局(DARPA)出資贊助的研究小組,當時他們的研究目標是CMOS技術如何拓展到 25nm及以下領域,顯示有兩種途徑可以實現這...