分類標籤：微影的所有文章

微影設備製造商ASML近期宣布，接獲美國一家主要客戶十五部EUV機台訂單，並將於今年底開始陸續出貨;同時間，日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司，致力生產EUV微影所需的光阻劑，為E...

又到了超紫外光(EUV)微影技術的關鍵時刻了。縱觀整個半導體發展藍圖，研究人員在日前舉辦的IMEC技術論壇(ITF)上針對EUV微影提出了各種大大小小即將出現的挑戰。到了下一代的10nm節點，降...

EUV微影技術將在未來幾年內導入10奈米(nm)和7nm製程節點。 不過，根據日前在美國加州舉辦的ISS 2018上所發布的分析顯示，實現5nm晶片所需的光阻劑仍存在挑戰。極紫外光(extrem...

有消息人士表示，華為決定提升晶片自主研發能力及自給率，以降低對美國晶片的依賴。據消息人士透露，華為下半年項目代號為Seine及Seattle的中低端手機，也將導入麒麟處理器，隨著麒麟處理器的逐漸...

三星於周四（10/18）表示，已完成所有製程技術的開發，已開始量產導入極紫外光（Extreme Ultraviolet，EUV）微影技術的7納米低功耗（7-nanometer Low Power...