盛美半导体设备发布Ultra Furnace立式炉设备 - 集微网

盛美半导体设备（纳斯达克：ACMR），作为先进半导体设备领域领先的晶圆清洗设备 ... 盛美半导体Ultra Furnace立式炉目标市场以中国大陆为起点，逐步向韩国和中国台湾 ... 首页 > IC > 正文 收藏 点赞 评论 微信扫一扫分享 盛美半导体设备发布UltraFurnace立式炉设备，进军干法工艺市场 作者： 爱集微 来源：盛美半导体 #盛美半导体# 2020-05-01 盛美半导体设备（纳斯达克：ACMR），作为先进半导体设备领域领先的晶圆清洗设备供应商，本周发布了立式炉设备（UltraFurnace）——首台为多种干法工艺应用开发的系统。

首台立式炉设备优化后可实现高性能的低压化学气相沉积（LPCVD）应用，同时该设备平台还可延伸至氧化和退火，以及原子层沉积(ALD)等应用。

此次的立式炉设备也展现了盛美中国和韩国研发团队为时两年的合作成果。

图：UltraFurnace立式炉产品“先进的技术节点带来了持续的挑战，这就要求设备供应商进行创新。

而这种市场需求给盛美提供了重要的机会。

”盛美半导体设备董事长王晖表示：“不断创新是盛美的DNA。

我们发现了可以受益于我们技术的市场需求，所以就将我们的技术延伸至该新的细分市场，在盛美已建立的湿法工艺产品系列上增加了UltraFurnace立式炉产品系列，这样既可以为客户的先进产品提供整体解决方案，同时又扩大了我们的市场机遇。

”“UltraFurnace立式炉产品是由我们中国和韩国的专业团队合作开发差异化技术的成果。

”盛美半导体韩国公司首席执行官金泳律说：“盛美韩国团队的成立让我们世界一流的上海团队如虎添翼，加速了我们进军市场的速度，也可给本土的客户提供优秀的技术支持。

”沉积工艺是指，在高温下化学气体在晶圆表面上反应形成氧化硅或者氮化硅膜层。

UltraFurnace立式炉系统可用于批量处理多至100片12英寸（300毫米）晶圆。

创新的系统设计使用了新开发的硬件，提高了耐用性，同时搭载了盛美成熟的软件技术、专有的控制系统和算法。

这些特点保证了设备能稳定地控制工艺压力、气体流量和温度。

目前盛美UltraFurnace立式炉主要面向LPCVD工艺市场，后续只需对其组件和布局进行一些局部变更，就可满足其它目标应用需求。

85%左右的硬件配置可保持不变，所以可以有效地实现面向新应用的变动。

盛美半导体UltraFurnace立式炉目标市场以中国大陆为起点，逐步向韩国和中国台湾市场推进。

盛美已于2020年初，向中国一家重要的逻辑客户的制造工厂交付了第一台UltraFurnace。

该设备用于LPCVD，目前已经在客户端安装并进行验证。

请联系下列区域的盛美半导体设备销售代表，以获得更多UltraFurnace立式炉设备资讯。

关于盛美半导体设备公司盛美半导体设备公司从事对先进集成电路制造与先进晶圆级封装制造行业至关重要的单片晶圆或槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备和热处理设备的研发、生产和销售。

并致力于向半导体制造商提供定制化、高性能、低消耗的工艺解决方案，来提升他们多个步骤的生产效率和产品良率。

爱集微 作者 微信： 邮箱：[email protected] 作者简介 读了这篇文章的人还读了... 盛美半导体设备用于晶圆级封装的湿法去胶设备获IDM大厂重复订单 盛美半导体姚婷：前道电镀设备市场前景广阔，国产厂商正稳步前进 盛美用于先进逻辑、DRAM和3D-NAND半导体制造的300mm单片高温SPM设备已交货 再迎国内半导体设备巨头！盛美半导体即将登陆科创板 写在半导体设备市场爆发前夕 盛美半导体发布首台应用于化合物半导体制造中晶圆级封装和电镀应用的电镀设备 热门文章 彭博社：新思科技正接受美商务部调查，涉嫌转让关键技术给华为和中芯国际 04-1409:34 拒绝被软银实际控制，坚持自主发展！安谋科技联名签署团队公开信 9天前 安森美突发通知：受上海疫情影响，中国全球配送中心被迫关闭！ 04-1921:09 芯片工业：要避免过度强调先进工艺 04-1517:13 OLED显示屏制造商遭遇芯片短缺和生产良率问题的双重冲击 04-2221:29 飞睿智能爱希ISEE雷达人体存在感应产品发布 04-1315:16 PDF加载中... 站长统计