功能性大氣電漿實驗室 - 明志科技大學
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延伸文章資訊
- 1電漿源原理與應用之介紹
蝕刻技術中,正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速. 後轟擊矽晶圓,使其表面原子 ... 主要是藉著改變氣體流量及氣體的種類來調整火炬的. 輸出功率。漩流產生 ...
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1.2.1 電漿主要分類與特性. ... 1.3.2 感應耦合電漿(Inductively Coupled Plasmas, ICP) .... 12 ... 1.3.4 電容耦合電漿(Capa...
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蝕刻技術中,正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速. 後轟擊矽晶圓,使其表面原子 ... 主要是藉著改變氣體流量及氣體的種類來調整火炬的. 輸出功率。漩流產生 ...
- 4常壓電漿原理 - 馗鼎奈米科技股份有限公司
如何建立便宜、大面積且高效率的常壓電漿技術仍為全世界正在努. 力解決的問題,也是業界最難突破的技術瓶頸。 常見之常壓電漿分類. 常壓大氣電漿電漿依照放電 ...
- 5等离子体- 维基百科,自由的百科全书
等离子体(又稱电浆),是物質狀態之一,是物質的高能狀態。其物理性質與固態、液態和氣態不同。等離子體和氣體一樣,形狀和體積不固定,會依着容器而改變 ...