3奈米製程- 台灣積體電路製造股份有限公司

台積公司的3奈米（N3）製程技術將是5奈米（N5）製程技術之後的另一個全世代製程， ... 年領先專業積體電路製造服務領域，採用40奈米製程技術為多家客戶量產晶片。

Skiptomaincontent 首頁 專業積體電路製造服務 釋放創新 邏輯製程 3奈米製程 台積公司堅持技術自主，奠定全球技術領導地位，提供專業積體電路製造服務領域中最先進及最完備的技術與服務。

3奈米製程 台積公司的3奈米（N3）製程技術將是5奈米（N5）製程技術之後的另一個全世代製程，在N3製程技術推出時將會是業界最先進的製程技術... 5奈米製程 台積公司的5奈米（N5）鰭式場效電晶體（FinField-EffectTransistor，FinFET)製程技術是同時針對行動應用和高效能運算應用優化的製程選項... 7奈米製程 台積公司的7奈米鰭式場效電晶體（FinField-EffectTransistor，FinFET）製程技術提供專業積體電路造服務領域最具競爭力的邏輯閘密度... 10奈米製程 台積公司的10奈米鰭式場效電晶體製程技術（FinField-EffectTransistor，FinFET）締造專業積體電路製造服務領域在效能、功耗及面積... 16/12奈米製程 台積公司於2013年11月領先全球專業積體電路製造服務領域，成功試產16奈米FinFET（FinFieldEffectTransistor，鰭式場效電晶體）製程技術... 20奈米製程 台積公司於2014年領先全球半導體製造業成功以雙重曝刻（DoublePatterning）量產客戶20奈米產品，並於該年度締造最快速產能提升... 22奈米製程 22奈米超低功耗製程技術（22nmUltra-LowPower,22ULP）發展係根基於台積公司領先業界的28奈米製程，並於2018年第四季完成所有... 28奈米製程 台積公司於2011年領先專業積體電路製造服務領域推出28奈米泛用型（GeneralPurpose）製程技術，並針對客戶需求提供業界最完備多樣的... 40奈米製程 台積公司於2008年領先專業積體電路製造服務領域，採用40奈米製程技術為多家客戶量產晶片。

此一技術結合了193奈米浸潤式曝光顯影製程以及... 65奈米製程 台積公司於2005年領先專業積體電路製造服務領域成功試產65奈米晶片，並於2006年成功通過65奈米製程技術的產品驗證，並針對客戶需求率先... 90奈米製程 台積公司領先全球於2004年12月日本半導體展（SEMICONJapan）中，發表已順利使用浸潤式曝光（ImmersionLithography）機台產出... 台積公司領先全球於2004年12月日本半導體展（SEMICONJapan）中，發表已順利使用浸潤式曝光（ImmersionLithography）機台產出90奈米晶片、並通過功能驗證的研究成果。

台積公司創新的浸潤式曝光技術，採用以水為介質的一九三奈米浸潤式曝光機，取代傳統的一五七奈米乾式曝光機，改寫了全球半導體產業的曝光機規格。

此項創新不僅進一步強化台積公司的技術領導地位，更協助全球半導體業突破摩爾定律（Moore’sLaw）的挑戰，得以繼續推進更先進的製程技術。

0.13微米製程 台積公司領先全球半導體業界，成功開發0.13微米系統單晶片（System-on-a-Chip，SoC）銅／低介電係數（Cu/Low-K）製程技術，其中重要... 0.18微米製程 台積公司領先全球在1998年就推出了世界第一個0.18微米低耗電製程技術。

之後，更每隔兩年就領先競爭對手推出下一代新的低耗電製程技術... 3微米製程 台積公司於1987年創立，即秉持｢自主技術｣的策略，並積極進行製程技術開發，以奠定競爭優勢。

台積公司成立之初，自台灣工研院移轉3.5微米... 相關資訊 業務服務 晶圓廠區 平台技術 TSMC-Online™ 台積公司客戶入口網站 TSMC-SUPPLYONLINE360 台積公司供應商入口網站 文件中心 閱讀更多台積公司資訊