電漿清洗(Plasma Cleaning) - 文章資訊 - 原晶半導體設備

電漿清洗(Plasma Cleaning) - 文章資訊- 原晶半導體設備股份有限公司. ... Henniker Plasma Related References. / 2021-06-27 / ... 文章資訊 HennikerPlasmaRelatedReferencesIminaTechnologiesRelatedReferenceszeroKNanoTechRelatedReferencesKorvusTechnologyRelatedReferences /2021-06-27/ 電漿清洗(PlasmaCleaning) 電漿清洗是一種經過驗證、有效、經濟且環保的關鍵表面處理方法。

與傳統的濕式清潔方法相比，使用電漿進行離子清洗可消除奈米級的工業/天然油脂(oil)與油膏(grease)，並減少6 倍的汙染，包括溶劑清潔殘留物本身。

經電漿清洗，表面回歸未受汙染狀態，可在無有害廢料情況下進行黏合或進一步製程。

  電漿清洗如何進行？ 在電漿中產生的紫外線光能有效破壞表面汙染物的有機鍵結，這有助於分解油脂(oil)與油膏(grease)，接著由電漿中產生的高能氧物質進行清洗。

這些物質與有機污染物反應，主要形成水和二氧化碳，在處理過程中，這些物質會從腔室中持續被排出。

如果要電漿清洗的部件由容易氧化的材料(如銀或銅)組成，反應氣體則使用惰性氣體（如氬氣或氦氣）代替。

這些經電漿活化的原子和離子就像分子噴砂一樣，可以分解有機污染物，汙染物則在處理過程中再次蒸發並從腔室中排出。

下方影片將簡單說明電漿清洗進行方式、大氣電漿與真空電漿系統分別應用： 電漿清洗適用於： 金屬表面的超精細清潔 塑膠和彈性體的表面處理 眼科產品和玻璃製品的表面處理和清潔 陶瓷 去除表面氧化   電漿處理 HennikerPlasma 回上頁 TOP 繁體中文