電漿處理簡述 - 原晶半導體設備
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/2021-06-27/
電漿處理簡述
首先,我們先來定義何謂「電漿」。
固體、液體、氣體是我們都熟悉的物質三態。
我們可以通過增加或減少能量(如:加熱或冷卻)來調整物質狀態。
若繼續增能量,氣體分子會被電離(失去一個或多個電子),並帶淨正電荷。
如果被電離的分子達一定數量進而影響氣體電氣特性,則即為電漿。
因此,電漿通常被稱為物質的第四態。
電漿處理可用於多種材料表面特性改質,使它們更容易結合、黏合和上漆,通過清潔及活化表面來改善表面的粘附特性。
電漿包含正離子、電子、中性氣體原子或分子、紫外線以及激發態氣體原子和分子,它們可以攜帶大量內能(電漿會發光是因為這些激發態中性粒子弛豫到能量較低的狀態)。
在電漿處理過程中,所有成分都可以與表面作用。
我們可以透過選擇氣體混合物、功率、壓力等因素,精確地調整或設定電漿處理的效果。
下方影片將介紹何謂電漿處理技術及其功用:
電漿處理技術原理
電漿處理製程可以在真空外殼或腔室中進行—能量施加電力之前,空氣被抽出,氣體在低壓下流入。
電漿處理是一種低溫製程,可以處理對熱敏感的材料。
日常生活中常見的電漿:
•螢光燈
•霓虹燈
•電漿電視
電漿處理的常見工業用途、材料及應用:
•航太
•汽車
•隱形眼鏡和光學元件
•過濾介質
•醫療
•顯微鏡
•PCB/電子組裝
•O型環
•塑膠/會員卡
•影印
•學術研究
•紡織品
電漿處理最常用的材料:
•塑料,包括PEEK、PTFE、聚丙烯、聚乙烯
•複合材料
•工程聚合物
•微流體PDMS
•玻璃、金屬和陶瓷
電漿處理的常見用途:
•電漿表面清洗
•電漿表面活化以提高附著力
• 電漿塗佈(親水&疏水)
• 電漿蝕刻
電漿處理
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