高密度電漿鍍膜技術-技術移轉-產業服務

技術簡介. 開發以脈衝雷射電弧鍍膜(Pulse Laser Arc Deposition)技術，在微細鑽頭表面成長氮化物多層複合薄膜，及其線上壽命測試分析。

跳到主要內容區塊 ::: 產業服務 首頁產業服務技術移轉 技術名稱： 高密度電漿鍍膜技術 技術簡介開發以脈衝雷射電弧鍍膜(PulseLaserArcDeposition)技術，在微細鑽頭表面成長氮化物多層複合薄膜，及其線上壽命測試分析。

AbstractThepulselaserarcdepositionsystemhasbeenscaledupfromthelaboratoryleveltoanindustrialprototype. 技術規格多層奈米複合薄膜之薄膜表面硬度值＞40GPa，薄膜表面平均粗糙度Ra＜0.05μm。

TechnicalSpecificationPropertiesofthemulti-layercoating:hardness!O40GP,roughnessRa!O0.05￡gm. 技術特色可在金屬及矽基板複材沉積高熱傳導係數薄膜、高純度高硬度類鑽膜以及DLC/CrC/CrN等多層奈米複合薄膜等技術。

應用電弧鍍膜裝置完成蒸鍍多層奈米複合薄膜於0.8mmf微細鑽頭。

應用範圍應用於現有之PCB高速精密加工之微細鑽頭、壓鑄件成形加工刀具產品、硬碟讀取頭元件、生物醫療器材及各種精密模具等的表面改質鍍膜。

此外；低溫成長功能性氧化物薄膜亦是其特殊之應用領域。

接受技術者具備基礎建議（設備）真空電弧離子鍍膜機、鍍膜製程技術 接受技術者具備基礎建議（專業）真空電弧離子鍍膜應用/製造經驗 技術分類 金屬材料聯絡資訊 聯絡人：呂明生金屬材料研究組 電話：+886-3-5915214或Email：[email protected] 客服專線：+886-800-45-8899 傳真：.