常見真空鍍膜技術 - 永源科技

常用鍍膜技術如圖所示，從傳統的電鍍到現今的氣相法，如物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)及化學氣相沉積(Chemical vapor deposition, CVD)兩種。

... 首頁 關於PVD 常見真空鍍膜技術 關於PVD PVD品質攻略常見真空鍍膜技術PVD簡述PVD陰極電弧沉積系統 常見真空鍍膜技術 常用鍍膜技術如圖所示，從傳統的電鍍到現今的氣相法，如物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition,PVD)及化學氣相沉積(Chemical vapordeposition,CVD)兩種。

而隨著工業進步，對於薄膜品質的要求也提高，相較於傳統電鍍法，在真空的環境下可以確保在製程中不會有其他物質摻入薄膜，在現今的高科技技密工業以及半導體產業需要的高品質要求中，真空鍍膜技術是最符合的鍍膜技術，也是高科技工業的關鍵技術。

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