拓荆科技IPO专题-中国上市公司网

拓荆科技股份有限公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。

公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。

全部 文章 图片 热搜TAGS：中科海讯，过会新时空，更新冠城大通指南针，路演锐新昌，铝合金上市银行筑博设计，路演侨银环保，中签率     公司简介 拓荆科技股份有限公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。

公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。

公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列。

拓荆科技于4月20日在上交所科创板上市 中国上市公司网讯4月19日，拓荆科技股份有限公司(以下简称“拓荆科技”或公司)披露了首次公开发行股票上市公告书，公司将于2022年4月20日在上交所科创板上市，股票简称为“拓荆科技”，股票代码为&[详细] 拓荆科技中签号码共有16,269个 中国上市公司网讯4月12日，拓荆科技股份有限公司首次公开发行股票(以下简称“拓荆科技”)发布了网上中签结果公告，中签号码共有16,269个。

拓荆科技中签结果如下：末尾位数中签号码末“4”位数3[详细]   最新消息 拓荆科技于4月20日在上交所科创板上市 拓荆科技中签号码共有16,269个 拓荆科技中签率为0.04355663% 拓荆科技今日申购 发行价格为71.88元/股 拓荆科技4月7日网上路演 拓荆科技IPO发行安排 拓荆科技今起招股 4月8日申购 拓荆科技IPO注册获同意 将于上交所科创板上 IPO重要信息 股票代码 688072 股票简称 拓荆科技 上市板块 上交所科创板 发行价格(元/股) 71.88 发行市盈率 - 网上发行股数(股) 8,134,500 网下配售数量(股) 19,455,732 总发行数量(股) 31,619,800 网上发行中签率(%) 0.04355663 募集资金总额(亿元) 22.73 保荐人(主承销商) 招商证券 预先披露日期 2021-07-12 上市委会议通过日期 2021-10-29 提交注册日期 2021-11-05 同意注册日期 2022-03-01 刊登发行公告日期 2022-03-29 网上路演日期 2022-04-07 网上发行日期 2022-04-08 中签号公布日期 2022-04-12 上市日期 2022-04-20   拓荆科技基本资料及发行相关资料 公司名称 拓荆科技股份有限公司 英文名称 PiotechInc. 成立日期 2010年04月28日（股份公司设立2021年1月12日） 注册资本(人民币万元) 9,485.8997 法人代表 吕光泉 证监会行业分类 C35 专用设备制造业 雇员总数(人) 429（截至2021年9月30日） 总经理 田晓明 董事会秘书 赵曦  证券事务代表   注册地址 辽宁省沈阳市浑南区水家900号 办公地址 辽宁省沈阳市浑南区水家900号 邮编 110168 电话 024-24188000 传真 024-24188000-8080 公司网址 http://www.sypiotech.cn 电子邮件 [email protected] 保荐代表人 刘宪广、张贺 会计师事务所 天健会计师事务所（特殊普通合伙） 经办会计师 陈焱鑫、徐银 律师事务所 北京市中伦律师事务所 经办律师 都伟、刘佳、姚腾越 资产评估机构 北京中企华资产评估有限责任公司 经办评估人员 王晨煜、王少岩 发行费用概算(万元)   其中信息披露费用(万元)     拓荆科技简介及募资项目 公司简介 拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。

公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。

公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

主营业务 从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。

筹集资金将用于的项目 序号 项目 投资金额(万元) 1 高端半导体设备扩产项目 7,986.46 2 先进半导体设备的技术研发与改进项目 39,948.34 3 ALD设备研发与产业化项目 27,094.85 4 补充流动资金 25,000.00 投资金额总计 100,029.65   拓荆科技前十大股东（发行前） 序号 股东名称 持股数量(万股) 占总股本比例(%) 1 国家集成电路基金 2,512.1755 26.4833 2 国投上海 1,729.7297 18.2347 3 拓荆科技IPO专题-中国上市公司网 全部 文章 图片 热搜TAGS：中科海讯，过会新时空，更新冠城大通指南针，路演锐新昌，铝合金上市银行筑博设计，路演侨银环保，中签率     公司简介 拓荆科技股份有限公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。

公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。

公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列。

拓荆科技于4月20日在上交所科创板上市 中国上市公司网讯4月19日，拓荆科技股份有限公司(以下简称“拓荆科技”或公司)披露了首次公开发行股票上市公告书，公司将于2022年4月20日在上交所科创板上市，股票简称为“拓荆科技”，股票代码为&[详细] 拓荆科技中签号码共有16,269个 中国上市公司网讯4月12日，拓荆科技股份有限公司首次公开发行股票(以下简称“拓荆科技”)发布了网上中签结果公告，中签号码共有16,269个。

拓荆科技中签结果如下：末尾位数中签号码末“4”位数3[详细]   最新消息 拓荆科技于4月20日在上交所科创板上市 拓荆科技中签号码共有16,269个 拓荆科技中签率为0.04355663% 拓荆科技今日申购 发行价格为71.88元/股 拓荆科技4月7日网上路演 拓荆科技IPO发行安排 拓荆科技今起招股 4月8日申购 拓荆科技IPO注册获同意 将于上交所科创板上 IPO重要信息 股票代码 688072 股票简称 拓荆科技 上市板块 上交所科创板 发行价格(元/股) 71.88 发行市盈率 - 网上发行股数(股) 8,134,500 网下配售数量(股) 19,455,732 总发行数量(股) 31,619,800 网上发行中签率(%) 0.04355663 募集资金总额(亿元) 22.73 保荐人(主承销商) 招商证券 预先披露日期 2021-07-12 上市委会议通过日期 2021-10-29 提交注册日期 2021-11-05 同意注册日期 2022-03-01 刊登发行公告日期 2022-03-29 网上路演日期 2022-04-07 网上发行日期 2022-04-08 中签号公布日期 2022-04-12 上市日期 2022-04-20   拓荆科技基本资料及发行相关资料 公司名称 拓荆科技股份有限公司 英文名称 PiotechInc. 成立日期 2010年04月28日（股份公司设立2021年1月12日） 注册资本(人民币万元) 9,485.8997 法人代表 吕光泉 证监会行业分类 C35 专用设备制造业 雇员总数(人) 429（截至2021年9月30日） 总经理 田晓明 董事会秘书 赵曦  证券事务代表   注册地址 辽宁省沈阳市浑南区水家900号 办公地址 辽宁省沈阳市浑南区水家900号 邮编 110168 电话 024-24188000 传真 024-24188000-8080 公司网址 http://www.sypiotech.cn 电子邮件 [email protected] 保荐代表人 刘宪广、张贺 会计师事务所 天健会计师事务所（特殊普通合伙） 经办会计师 陈焱鑫、徐银 律师事务所 北京市中伦律师事务所 经办律师 都伟、刘佳、姚腾越 资产评估机构 北京中企华资产评估有限责任公司 经办评估人员 王晨煜、王少岩 发行费用概算(万元)   其中信息披露费用(万元)     拓荆科技简介及募资项目 公司简介 拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。

公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。

公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

主营业务 从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。

筹集资金将用于的项目 序号 项目 投资金额(万元) 1 高端半导体设备扩产项目 7,986.46 2 先进半导体设备的技术研发与改进项目 39,948.34 3 ALD设备研发与产业化项目 27,094.85 4 补充流动资金 25,000.00 投资金额总计 100,029.65   拓荆科技前十大股东（发行前） 序号 股东名称 持股数量(万股) 占总股本比例(%) 1 国家集成电路基金 2,512.1755 26.4833 2 国投上海 1,729.7297 18.2347 3 中微公司 1,062.2547 11.1982 4 嘉兴君励 701.2105 7.3921 5 润扬嘉禾 623.3158 6.5710 6 中科仪 300.0000 3.1626 7 沈阳创投 297.0297 3.1313 8 苏州聚源 180.0180 1.8977 9 中车国华 162.1622 1.7095 10 宿迁浑璞 150.0000 1.5813 合计   81.3617   行业内其他主要企业 序号 公司名称 简要介绍 1 应用材料（AMAT） 公司成立于1967年，系美国纳斯达克证券交易所上市公司（股票代码：AMAT），主要从事半导体设备的研发、生产和销售，主要产品包括原子层沉积设备、化学薄膜沉积设备、电化学沉积设备、物理薄膜沉积设备、刻蚀设备、快速热处理设备、离子注入机、化学机械抛光设备等。

2 泛林半导体（Lam） 公司成立于1980年，系美国纳斯达克证券交易所上市公司（股票代码：LRCX），主要从事半导体设备的研发、生产和销售，主要产品包括刻蚀设备、薄膜沉积设备、晶圆清洗设备、光致抗蚀设备等。

3 东京电子（TEL） 公司成立于1963年，系东京证券交易所上市公司（股票代码：8035.TYO），主要从事半导体设备的研发、生产和销售，其主要产品包括显像设备、热处理成膜设备、干法刻蚀设备、湿法清洗设备及测试设备及平板液晶显示设备等。

4 先晶半导体（ASMI） 公司成立于1968年，是一家荷兰晶圆制造半导体工艺设备的供应商，阿姆斯特丹泛欧交易所上市公司（股票代码：ASM）。

公司产品涵盖了晶圆加工技术的重要方面，包括光刻、沉积、离子注入和单晶圆外延。

  拓荆科技前五大客户(2021年1-9月) 序号 客户名称 1 中芯国际 2 北京屹唐科技有限公司 3 长江存储科技有限责任公司 4 华虹集团 5 睿力集成电路有限公司 拓荆科技前五大供应商(2021年1-9月) 序号 供应商名称 1 万机仪器 2 超科林微电子设备（上海）有限公司 3 苏州冠韵威电子技术有限公司 4 RorzeCorporation 5 BrooksAutomation,Inc.   拓荆科技主要财务指标 财务指标/时间 2021年9月 2020年12月 2019年12月 2018年12月 总资产(元) 2,345,298,917.71 1,814,069,093.40 1,074,116,874.19 926,445,621.22 净资产(元) 1,180,275,120.86 1,122,498,745.81 814,269,557.03 694,153,505.45 少数股东权益(元) -625,975.59 289,071.44 - - 营业收入(元) 373,895,652.48 435,627,676.17 251,251,546.85 70,644,026.75 净利润(元) 57,048,733.85 -11,699,944.22 -19,366,448.24 -103,222,885.38 资本公积(元) 1,001,575,585.12 1,280,812,453.49 977,830,688.99 845,585,030.67 未分配利润(元) 84,466,514.33 -254,765,043.20 -243,276,027.54 -223,909,579.30 基本每股收益(元) 0.61 - - - 稀释每股收益(元) 0.61 - - - 每股现金流(元) -0.80 3.26 -0.28 -1.80 净资产收益率(%) 5.03 -1.11 -2.83 -13.86   拓荆科技IPO专题全部新闻 2022-04-19拓荆科技于4月20日在上交所科创板上市 2022-04-12拓荆科技中签号码共有16,269个 2022-04-11拓荆科技中签率为0.04355663% 2022-04-08拓荆科技今日申购 发行价格为71.88元/股 2022-04-06拓荆科技4月7日网上路演 2022-03-29拓荆科技IPO发行安排 2022-03-29拓荆科技今起招股 4月8日申购 2022-03-01拓荆科技IPO注册获同意 将于上交所科创板上市 2021-11-01拓荆科技IPO过会 将于上交所科创板上市 2021-10-25拓荆科技10月29日上会 拟发行3,161.9800万股 2021-07-13拓荆科技IPO被受理 将于上交所科创板上市 首页上一页 1 下一页 末页总共1页   Copyright©2006-2017PoweredbyIpo123.cn，中国上市公司网AllRightsReserved. 中国上市公司网版权所有 网站备案号：京ICP备18012647号-1京公网安备110102000502号 咨询电话:(010)63458922邮箱:[email protected]