拓荆科技股份有限公司_已投项目

沈阳拓荆科技有限公司成立于2010年4月，是由海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业，专业从事高端半导体薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务 ... 当前位置：网站首页 　/　已投项目 拓荆科技股份有限公司     沈阳拓荆科技有限公司成立于2010年4月，是由海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业，专业从事高端半导体薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务。

公司先后三次承担国家科技重大专项，2016年、2017年、2019年获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。

　　   公司拥有12英寸PECVD（等离子体化学气相沉积设备）、ALD（原子层薄膜沉积设备）、3DNANDPECVD（三维结构闪存专用PECVD设备）三个完整系列产品，拥有自主知识产权，技术指标达到国际较先进水平。

产品广泛应用于集成电路前道和后道、TSV封装、光波导、LED、3D-NAND闪存、OLED显示等高端技术领域。

公司产品目前已导入国内多家主流内资晶圆厂，也是国内唯一在半导体领域大规模量产应用的国产自主PECVD设备公司。

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