Item 310993100/3505 - Hsiuping University of Science and ...

摘要: 本研究主要是利用13.56 MHz之射頻(RF)氧電漿對二種市售高分子基材，聚 ... 改質前後之高分子基材以水接觸角之量測觀察其親水性之變化，以原子力 ... English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數:4190/7122 造訪人次:2189300      線上人數:16 RCVersion3.2©PoweredByDSPACE,MIT.EnhancedbyNTULibraryIRteam. 搜尋範圍 全部HUSTIR 工程學院    能源與材料科技系       --期刊論文 進階搜尋 登入 ‧ 上傳 ‧ 說明 ‧ 關於HUSTIR ‧ 管理 HsiupingUniversityofScienceandTechnologyInstitutionalRepository > 工程學院 > 能源與材料科技系 > 期刊論文 >  Item310993100/3505 資料載入中..... 請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/3505 題名: 以O2電漿進行高分子表面改質之研究 作者: 揭由志 貢獻者: 修平技術學院化學工程系 關鍵詞: 高分子基材氧電漿表面改質接觸角附著性 日期: 2010-03 上傳時間: 2013-08-13T03:27:04Z 摘要: 本研究主要是利用13.56MHz之射頻(RF)氧電漿對二種市售高分子基材，聚對苯二甲酸乙烯酯(PET)及聚碳酯(PC)進行表面改質，以改變電漿功率及處理時間的方式來觀察高分子基材表面性質的變化，也期望能藉此改善高分子基材與金屬鍍膜間之附著性。

改質前後之高分子基材以水接觸角之量測觀察其親水性之變化，以原子力顯微鏡(AFM)觀察表面粗糙度及形貌的改變，而基材表面官能基的變化則是利用X光光電子能譜儀(XPS)進行鑑定。

高分子基材經不同功率之氧電漿處理後，水接觸角有明顯降低之趨勢，顯示經氧電漿處理後之高分子表面親水性增加，而表面粗糙度則隨電漿能量之增加而上升。

高分子基材表面經電漿處理後，含氧之極性官能基(C-O及C=O)比率有明顯的改變。

另外，鍍著於改質後高分子基材上之金屬膜具有較低之片電阻，而金屬鍍膜與高分子基材之附著性亦有非常顯著的提升。

關聯: 修平學報20,125-136 顯示於類別:[能源與材料科技系]期刊論文 文件中的檔案: 檔案 大小格式瀏覽次數 20-08.pdf367KbAdobePDF1144檢視/開啟 在HUSTIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.   DSpaceSoftware Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard /  Enhancedby  NTULibraryIRteam Copyright ©   - 回饋