先進電漿實驗室 - 明志科技大學

電漿態(plasma)是人類繼固、液、氣三態之外發現的物質第四. 態，主要是藉由氣體在高電磁場下離子化後，形成一個包括電子（帶. 負電荷）、正離子（偶有負離子） ...

電漿（稱做等離子體），它是在固態、液態和氣態以外的第四大物質狀態。 ... 與佈植技術方面，都是用電漿原理來實現半導體的製程，而其中佈植領域的電漿浸潤式 ...

PECVD 法的最大特色在於利用的是電漿態下化學性活潑的離子、原子團，. 因而可以在低溫下生成薄膜。Thermal CVD 法是在高溫下的製膜方式，大多限於. 某些特定 ...

電漿聚合用來做表面改質，其特點是只在基材表面作處理，對於材料本身性質並無影響，其原理是在低壓反應器內通入各種 ... 善用常壓電漿低價及量產性之優點。

低壓電漿有以下優點，（1）由於壓力低可提高分子的平均自由路徑，. 增加分子碰撞能量，因此所需崩潰電壓低；（2）可以穩定操作控制電. 漿放電區域；（3） ...