PVD濺鍍-威慶科技

PVD濺鍍的優點與限制: a. 優點~. 無污染。

多用途。

精度高不影響外觀尺寸。

膜層附著性佳。

膜層硬度佳。

b. 缺點~. 鍍膜設備昂貴。

靶材的製造受限制。

必須在真空 ... 超音波清洗 電漿拋光 PVD真空濺鍍 1.何謂PVD:    物理氣相沈積（PhyasicalVaporDeposition)   2.PVD(PhysicalVaporDeposition)的種類:    a.蒸鍍(EvaporationDepostion)100~250,000Å/min。

   b.離子鍍(IonPlating)100~250,000Å/min。

   c.濺鍍(SputteringDeposition)25~10,000Å/min。

   d.PVD通常需在真空下進行,其真空需求約為:10-0~10-4Pa        (10-2~10-6torr)。

  3.PVD的用途:    妝飾，抗腐蝕，耐磨，導電，絕緣，反光，反射熱，    散熱，抗菌處理。

  PVD(濺鍍)的原理:                            濺鍍是利用氬離子轟擊靶材， 藉由動量轉換將靶材表面原子濺出靶材本體， 變成氣相的原子再受到外加電場的影響進而沉積  於基材上形成薄膜。

    PVD設備結構介紹 PVD濺鍍的優點與限制:                                   a.優點~                                               無污染。

                                              多用途。

                                              精度高不影響外觀尺寸。

                                              膜層附著性佳。

                                               膜層硬度佳。

                                b.缺點~                                                鍍膜設備昂貴。

                                               靶材的製造受限制。

                                               必須在真空環境下進行加工製程。

                                               沈積速率低（相對於水電鍍）。

               PVD工藝流程 真空濺鍍-洗靶 真空濺鍍-鍍膜 PVD技術魚骨圖 PVD技術發展與應用 1.功能性薄膜：  a.光學膜。

 b.EMI(防電磁波干擾薄膜），靜電防護薄膜。

 c.工具鍍膜（車刀，铣刀，鑽頭，衝壓模具，射出模具）。

 d.半導體製程遮蔽膜，導電膜。

 e.抗腐蝕薄膜。

  2.裝飾性薄膜：  a.鐘錶，眼鏡。

 b.3C類製品（手機，相機，電腦）。

 c.衛浴五金。

 d.陶瓷，藝品。

 e.隔熱玻璃。

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