ICP RIE 比較

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而電子迴旋共振電漿源. （Electron Cyclotron Resonance，ECR）及電感耦合式電漿源. （Inductively Coupled Plasma，ICP）的 ... | [PDF] 行政院國家科學委員會專題研究計畫成果報告 - 國立交通大學機構典藏Reactive Ion Etching , ICP-RIE）之體型微加工製程技術，以高分子作為蝕刻保護層 ... 一般以蝕刻選擇比較高之二氧化矽（SiO2）或硼摻雜層（Boron Doping）來當作保護 ... | 成功大學電子學位論文服務4.2.2微中空陰極放電與其他放電技術比較69 ... T. W. Ebbesen and P. M. Ajayan: Nature 358 (1992) 220. ... Plasma Science, Tampa, FL, 1992.圖片全部顯示