DRIE 原理

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DRIE - 中文百科知識簡介DRIE，全稱是Deep Reactive Ion Etching，深反應離子刻蝕，一種微電子乾法腐蝕工藝。

基於氟基氣體的高深寬比矽刻蝕技術。

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DRIE_百度百科DRIE，全稱是Deep Reactive Ion Etching，深反應離子刻蝕，一種微電子幹法腐蝕工藝。

基於氟基氣體的高深寬比硅刻蝕技術。

與反應離子刻蝕原理相同，利用硅的各向 ... tw【背包客最愛】伽利略望遠鏡原理- 自助旅行攻略-202107311 观测成果; 2 制作方法; 3 原理; 4 历史; 5 望远镜. tw伽利略望遠鏡:伽利略望遠鏡（Galileo telescope）是指物鏡-百科知識...原理. 伽利略望遠鏡.[PDF] 國立交通大學機械工程研究所碩士論文June 2005. HsinChu, Taiwan, Republic of China. 中華民國九十四年六月. Page 3 ... 蝕刻原理及電容耦合式電漿源(capacitive coupled plasma)與變壓. | [PDF] 群創光電T2 廠(M01)蝕刻製程SF 6 破壞去除設備排放減量專案計畫書 ...108/8/8. DNV.GL_確證版. 2. 109/6/12. 初審後補正版. 3. 109/8/14. 第一次技術小組會議後修正版 ... 在平面顯示器產業之SF6 是應用於乾蝕刻，原理乃藉由電.[PDF] 群創光電B 廠(M02)蝕刻製程SF6 破壞去除設備排放減量專案計畫書版本GL_確證版 ... 群創光電成立於民國92 年，95 年股票在台上市，99 年3 月與奇美電子、統寶光電合 ... 在平面顯示器產業之SF6 主要應用於乾蝕刻，原理乃藉.[PDF] 乾蝕刻技術National Taiwan Normal University. Tel: 02-23583221 ext. 14. E-mail:[email protected] ... 氮化矽. 二氧化矽蝕刻幕罩. 氮化矽乾、溼式蝕刻的差異性. 溼式蝕刻：H. 3. | 圖片全部顯示