晶片製造，我國邁出了最關鍵從0到1的一大步

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文/大章說科技

眾所周知，在電子設備的核心領域晶片製造上，我國仍然和國外頂尖技術有著相當距離的差距，有人可能就會認為是理論和工藝上不行了，其實並不是這樣的，超高精度晶片的製造比較複雜，經常會涉及到除了晶片製造以外的一些行業，也就是說，要完整的製造一個晶片，需要一個超級龐大完整的工業鏈。

製造晶片的眾多設備當中，有一種叫做光刻機的設備，這種設備長期被國外的巨頭所壟斷，屬於民用科技領域最高端的技術，所以每一台的售價可想而知，上億美元一台，不過就像港珠澳大橋的建設一樣，國外出高價卡我們的脖子，我們就自己研發。

就在近日，國家重大科研裝備研製項目「超分辨光刻裝備研製」通過驗收，這台設備由中國科學院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到了22納米，結合雙重曝光技術之後，未來可以用來製造10納米級別的晶片！有很多懂一點的朋友們可能就會吐槽了。

​才22納米，和國外的7納米差的有點遠了吧，話不能這麼說，國外起步早，自然走得快，一項技術的研究當中，最難的不是從1到100，而是從0到1，所以說我國這一步可以說是從0跨越到了1，之後的路應該會走的更快更穩更好，國產強芯之路應該不遠了。

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