晶片大師：林本堅

晶片大師：林本堅

轉載自【2018.11.16 AA探針台 閱讀 8】

今天我們來聊聊台積電的傳奇人物中研院院士林本堅，台積電前研發副總經理林本堅。

他改變了全球半導體產業技術路徑，讓老大哥英特爾（Intel）及設備商艾斯摩爾（ASML）、尼康（Nikon）等業內巨頭，捨棄耗費逾10 億美元和數年的研究心力，跟著他與台積電一起轉彎。

不但全球半導體製程得以往下推進6 到7 個世代，約14 年時光，台積電也因此躋身一線大廠、主導業界規格。

台積電董事長張忠謀曾稱讚：假如沒有林本堅及其團隊，」台積電的微影（半導體關鍵製程之一）不會有今天這規模。

「

2018年9月8日，林本堅因開拓浸潤式微影系統方法，持續擴展納米級集成電路製造，將摩爾定律延伸多代榮膺2018年未來科學大獎數學與計算機科學獎。

世界上第一個提出這個科技的就是林本堅。

咱們的科學家委員會能夠找出林本堅這樣在工業界作出世界級、決定性貢獻的華人科學家真是令人佩服。

這樣的人在中國，絕無僅有。

如今，浸潤式顯影不但是英特爾（Intel）等半導體龍頭、設備商所認定的跨入45納米製程之後的解決方案，也已正式納入國際半導體藍圖架構成為主流。

他工作兩年，就搞出大事。

他到台積電工作兩年，就搞出轟動全世界半導體界的大事。

當時業界主要微影光源──波長 193 奈米的雷射，性能已經難以持續推動摩爾定律。

而預計接棒的 157 奈米光源，因為種種技術難題，商用化時程一再延後，成為業界頭痛的問題。

當林本堅在 2002 年，應邀到 157 奈米的業界研討會，竟然以一個眾人都沒想到的技術──將既有技術小幅改良的 193 奈米浸潤式微影為演講主題，結果引起滿場轟動。

把摩爾定律推進七代

正所謂時勢造英雄，當時已在台積電擔任光刻技術研發負責人的林本堅，早已注意到這個瓶頸。

他換個角度思考，發現可以在原有193納米乾式光刻鏡頭上發展浸潤式光刻，改用水代替空氣作為介質，注入為浸潤式設計的鏡頭與晶圓上的光阻之間，把進入光阻的光波長縮到134納米。

因而提高44%解析度的影像就可以轉接到晶圓的光阻上，讓刻出的電路更精細。

就是這個思考讓林本堅相信，改變原本的193納米乾式曝光為浸潤式，就可以讓工藝前進兩代半甚至三代。

林本堅在台積電研發的期間帶領團隊從130納米、做到90納米、65納米、40納米、28納米、20納米、和16納米，並開始研發10納米、7納米、和5納米。

他的創新和推動不但讓全球晶片工藝得以往下推進了6、7代，台積電也因此躋身一線大廠、主導業界規格。

一句話，讓台積電南科廠繼續蓋。

時間回到 2001 年，當時台灣朝野為了高鐵完工之後，以 300 公里時速呼嘯而過產生的震動，會不會影響附近南科區內半導體廠生產，而爭論不休。

當時台積的在南科已有一座六廠，十四廠廠房外觀剛完工，但設備尚未搬入，便暫停施工。

「整個園區都有這困擾，要不要蓋下去，不曉得怎麼辦？ 」林本堅回

蔣尚義推薦林本堅加入台積內部的評估小組，因為他負責的光學微影對震動最敏感，他覺得沒影響，其他部份理應也沒影響。

他欣然同意，因為他在 IBM 做過過震動對機台影響的研究，正巧派上用場。

他做了詳盡的實驗，細細分析之後，得出結論：「沒有影響。

」

台積電董事長張忠謀一聲令下，原先停工的 14 廠復工。

紛擾一時的高鐵震動爭議，也因此煙消雲散。

聯電等其他半導體廠，也跟著在南科加碼投資。

目前南科已成為台積電未來十年的擴廠重點，不但目前 16 奈米及 20 奈米製程均在南科生產，未來的 5 奈米、3 奈米先進位程也都將在此。

預計占台積營收比重，將超過 50%。

預計員工人數超過 1.4 萬人，帶動的群聚效應、投資外溢效果更遠超過這些數字。

林本堅一生獲獎無數，曾10度獲美國IBM傑出發明獎、美國IBM傑出貢獻獎、2008年當選美國國家工程學院院士……，更在2014年獲選為台灣中研院院士，成為台灣最高學術殿堂首位企業界院士。

如今，林本堅又獲得2018年未來科學大獎數學與計算機科學獎，獎金100萬美元。

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