一傳言光刻機斷供就緊張……這就是卡脖子的感覺

據《日經亞洲評論》報導，全球最大的光刻機供應商、全球唯一的EUV（極紫外線）光刻機供應商荷蘭阿斯麥爾（ASML）決定暫時中止向中芯國際交付EUV光刻機，而原因則可能是「擔心刺激到美國」。

資料顯示，晶圓代工廠中芯國際（SMIC）於2018年4月向ASML採購了一台當時最先進的EUV光刻機，價值約1.2億美元。

根據原定計劃，設備本來應該於2019年底交付，到2020年中期完成安裝。

而EUV光刻機則是製造7nm及以下更為先進的半導體製程工藝的關鍵。

這也是ASML首次向中國公司出售其最先進的EUV光刻機。

作為集成電路製造過程中最核心的設備，光刻機至關重要，晶片廠商想要提升工藝製程，沒有它萬萬不行。

每顆晶片誕生之初，都要經過光刻技術的鍛造。

簡單地說，光刻機就是把工程師的設計"印入"基底材料。

按照用途可以分為好幾種：有用於生產晶片的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於LED製造領域的投影光刻機。

用於生產晶片的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

目前在全球45nm以下高端光刻機市場當中，荷蘭ASML市場占有率達到80%以上，而且目前ASML是全球唯一能夠達到7nm精度光刻機的提供商。

Intel、台積電、三星都是它的股東，重金供養ASML，並且有技術人員駐廠，Intel、三星的14nm光刻機都是買自ASML，格羅方德、聯電以及中芯國際等晶圓廠的光刻機主要也是來自ASML。

更關鍵的是，EUV光刻機作為當前生產最新、最強大晶片必要設備，全球僅有ASML具備研發、製造此類光刻機的能力，全球範圍內都尚未出現可替代產品。

最先進的EUV光刻機售價高達1億美元一台，從高企的報價和EUV光刻機全球僅此一家出售可以看出，光刻機的技術門檻極高，是人類智慧集大成的產物。

相比之下，國內光刻機廠商則相對落後，只能實現中低端光刻機的生產，並且精度也不夠高，處於技術領先的上海微電子裝備有限公司已量產的光刻機中，性能最好的是能用來加工90nm晶片的光刻機，國內高端光刻機技術一直是被國外「卡脖子」的局面。

中科院院士劉明表示，雖然這些年我國在關於光刻機的很多領域取得進展，但是總體來說國內的光刻機技術與國外技術依舊有15到20年的差距。

半導體行業在未來5G和智能AI的背景下只會越來越重要，而光刻機是重中之重，要解決被「卡脖子」的局面，我們必須實現自主研發，這樣才能在未來市場站住腳跟。

希望實現高端國產光刻的日子早日到來。