華為再次傳來好消息,我國光刻機彎道超車,突破了9nm的技術瓶頸
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如今的社會一直在不斷的發展之中,有許多網際網路作為背景的企業逐漸崛起,尤其是在通信領域這一方面,作為我國通信領域的巨頭企業的華為,在第五代通信技術領域上完美實現了彎道超車,目前已經成功躋身進入世界一流的前沿。
其實目前在網際網路行業以及通信領域上,我國的科技企業已經都成功實現了彎道超車。
只不過在一些關鍵零部件方面上,我國的科技企業依舊是需要國外進口,晶片便是最好的例子。
晶片技術所存在的技術短板問題,這導致我國在進口晶片的時候完全沒有議價權,並且還有可能受到對方「卡脖子」的境況,中興和華為所遭遇的事情不就是在告訴我們晶片技術受限於外人所帶來的弊端?
一般情況下,晶片的製造分為兩個方面,一是晶片的設計,二則是在晶片的製造問題上。
目前在晶片設計方面,我國的華為海思在內的中國科技企業已經實現了技術性突破;但是在晶片製造上,我國的科技企業仍舊是受限於人,然而我們從本質上分析的話,在晶片製造上落後的問題主要在於光刻機技術十分落後。
也許有人不太明白,簡單來說就是,晶片想要製造出來的話,必須有光刻機的存在才可以把其圖片演變成一個真實的存在。
目前的光刻機製造水平,大多數人是以14nm為主的建築師。
而最先進的則是荷蘭ASML公司所製造的7mm的工藝光刻機。
正式因為才缺少光刻機所以才能與他們達成一致,但是這樣也會在一定程度上扼制我們的發展。
所以在意識到這個問題的嚴重性後,我國也的努力的製造光刻機並且在其領域投入了大量的人物以及財務。
但是我們製造的光刻機的工藝僅限於28nm和14nm,和7nm工藝之間還存在著不小的差距。
不過在最近一段時間內,中國晶片突然傳出一個好消息!我國的光刻機實現了彎道超車,已經突破了9nm技術瓶頸。
根據媒體在之前的報導我們得知,由武漢光電國家研究中心的甘棕松團隊,現在已經成功的研製出9nm工藝的光刻機。
這次研製出來的光刻機技術與其他國家的是完全不同的,國產的光刻機是利用二束雷射在自研的光刻機上突破了光束衍射極限的限制,這才刻出了最小的9nm線寬的線段,這也就是說這是屬於我們獨有的技術,所以有著我們自主的產權。
但是現在的9nm光刻機技術仍舊還處於試驗階段,與7nm工藝之間也是存在著一定的差距,即使我們現在無法超越荷蘭的ASML,但是我們最起碼可以與日本和德國的光刻機技術一較高下,我們的技術突破也只是時間問題罷了。
那麼,你們對我國的光刻機技術有什麼樣的看法呢?歡迎你們在評論區留下你們寶貴的評論!
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