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Intel宣布10nm進展:真拼了

三星宣布7LPP工藝進入量產,並表示基於EUV光刻技術的7LPP工藝對比現有的10nm FinFET工藝,可以提高20%性能、降低50%功耗、提升40%面積能效。三星電子的代工銷售和營銷團隊執行...