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現在半導體公司已經進軍10nm工藝，但新工藝需要全新的設備。EUV即紫外光刻機就是製程突破10nm及之後的7nm、5nm工藝的關鍵，現在ASML公司的EUV光刻機正在不斷提高產能和可靠性，但距離...