捲對捲式常壓電漿清洗機(直接式/間接式) - 關於暉盛科技

在全球常壓式(大氣式)電漿技術發展領域，暉盛科技首創瀑布式電漿處理機(NEMST-Waterfall2008)，其最大特點為大面積、連續式進行材料表面的清洗與活化，完全擺脫傳統的常壓 ... 回首頁產品介紹大氣電漿介電屏障放電寬幅式捲對捲式常... 產品介紹 介電屏障放電寬幅式 捲對捲式常壓電漿清洗機(直接式/間接式) NEMST-Waterfall2008系列 在全球常壓式(大氣式)電漿技術發展領域，暉盛科技首創瀑布式電漿處理機(NEMST-Waterfall2008)，其最大特點為大面積、連續式進行材料表面的清洗與活化，完全擺脫傳統的常壓電漿小噴頭無法處理大面積材料的困境；甚至可直接採用空氣(CDA)來產生電漿，大大降低反應氣體的成本。

反觀傳統的常壓電漿技術，需要同時加入大量穩定電漿的氣體(Ar,He)以及大量反應氣體(O2,N2)，導致運作成本昂貴。

常壓瀑布式電漿處理機可應用於濕式製程的前處理，舉凡蝕刻、電鍍、去膠渣、清洗等製程，均可先採用瀑布式電漿進行板面表面的處理，改善板面的潔淨度與濕濡性，以提高各種製程的良率。

此外，軟板業界(FCCL,FPC)常用的CORONA設備，由於產生之離子密度過於稀薄，導致清潔效果不彰及均勻度不佳等問題，均可藉由NEMST-Waterfall2008來大幅改善接著的效能。

您的詢價清單(0) 加入詢價 特色/設計說明 性能特點 應用/解決方案 電漿電極直接架設於膜材傳動滾輪上。

介電屏障放電(DBD)電漿電極設計。

直接式或間接式電漿設計。

電極幅寬可以客製化。

電極擴充性高，處理速度快。

可適用各種捲材材料。

可作產品單面處理。

反應氣體可直接使用空氣（CDA）或氮氣。

氣體及電力運作成本低。

電極有效幅寬100mm~2300mm(客製化，寬度可以再加大) 一般可處理的速度為0.5至10m/min。

(依製程需求，可進一步討論) 電漿穩定性、均勻度高。

各式軟板之表面清潔與改質(表面活化與粗糙度之改善)，適用於鍍金、鍍銅或出貨前之處理。

觸控或平面顯示器各式film材之表面處理。

各式電子或非電子元件/材料之表面清潔與改質，可適用於多種金屬或非金屬材料的處理(如PI、PET、PE、塑膠等)。

成長薄膜之應用。

BACK