鍍膜代工-真空鍍膜與電鍍的優缺點是什麽？ @ LED招牌 - 隨意窩

流量原子的組成與經冷卻，且未産生內擴散的靶材相同。

同一靶材的所有材料之鍍膜代工濺鍍速率大致相同。

(然而，蒸鍍的蒸鍍速率並不同)。

LED招牌LED招牌,字幕機,廣告招牌,跑馬燈,電視牆-久億光電www.iled.com.tw日誌相簿影音好友名片 201506021023鍍膜代工-真空鍍膜與電鍍的優缺點是什麽？?機械設備真空鍍膜的黏附性比較差，容易脫落電源供應器電鍍的種類很多，你說的電鍍是否是水電鍍？水電鍍的膜厚比真空濺鍍的厚，水電鍍膜厚一般爲15~20UM，真空電鍍的膜厚一般爲0。

5~2UM。

水電鍍的化學液不同會有不同的色彩。

真空電鍍的靶材不同鍍膜顔色不同，真空電鍍的功率，真空等級不同會有顔色的變化。

濺鍍濺鍍是利用氩離子轟擊靶材，擊出靶材原子變成氣相並析鍍于基材上。

濺鍍具有廣泛應用的特性，幾乎任何材料均可析鍍上。

1)濺鍍的優點與限制i)優點a)無汙染b)多電漿設備用途c)附著性好ii)限制a)靶材的制造受限制b)靶材的受損，如陶瓷靶材，鎢鋼銑刀限制了使用能量的範圍c)析鍍速率低2)濺鍍系統i)分類a)平面兩極式：靶材爲負極，基材爲正極b)三極式：由陽極，陰極，外加電子源等三種電極所組成的系統。

外加電子源産生電場加速正極離子化的氣體分子。

三極式系統不能使用于反應性濺鍍，因爲電子會影響反應氣體與汙染燈絲。

c)磁控濺鍍：利用磁場作用提高濺鍍速率d)反應濺鍍：將反應性氣體導入真空腔中，並與金屬原子産生化合物以鍍著。

ii)電流的分類a)直流電濺鍍－應用于導電基材與鍍層b)交流（或射頻）電濺鍍－應用于導電APPlasma或非導電基材與鍍層3)濺鍍系統組合i)靶材在濺鍍時，經電漿中的正離子轟擊，而析鍍于基材的鍍層材料；靶材通常是陰極。

ii)濺鍍的通量濺鍍時的通量即爲濺鍍原子的流量。

流量原子的組成與經冷卻，且未産生內擴散的靶材相同。

同一靶材的所有材料之鍍膜代工濺鍍速率大致相同。

(然而，蒸鍍的蒸鍍速率並不同)。

iii)接地屏蔽將離子局限于僅轟擊與濺鍍靶材；避免靶材夾治具被濺擊。

屏蔽與靶材之間的距離必須小于暗帶（darkspace）的厚度，因此，在高頻（13。

5MHz）或高壓使用時，此距離較近。

iv)擋板設置在兩個電極之間的活動板。

通常濺擊清潔電漿鍍膜靶材(靶材可能會在裝載或操作時受到大氣的汙染)時移置于靶材與基材之間。

v)靶材的冷卻當外加能量輸入系統，會使靶材的溫度提高，並損壞靶材與夾治具的結合，因此必須冷卻。

一般靶材都是用水冷卻之。

vi)基材溫度的控制利用電阻與光源等加熱。

一般而言，基材的表面溫度會因輝光放電，而高于塊材。

4)絕緣體的濺鍍絕緣薄膜可利用射頻濺鍍或反應濺鍍。

若采用直流電濺鍍，將迅速造成表面電荷堆積而無法濺鍍。

i)射頻電濺鍍（RFSputtering）使用頻率爲13。

56MHz的射頻電源，使靶材與鍍層表面能被離子與電子交替的轟擊，以避免電荷的堆積。

ii)射頻濺鍍的優點a)電子轟擊離子化的效率增高，且操作壓力比較低(<1mtorr)b)減少電弧（電弧的産生是由于粉塵或加熱蒸發的氣體）iii)反應濺鍍（Reactivespuutering）將反應性氣體加入氩氣中，如Ar+H2S，而與濺鍍原子，如镉形成硫化镉。

(例如，在氩氣加氮氣的環境下濺鍍钛，會形成氮化钛)。

其可爲直流電或射頻反應濺鍍。

5)磁控濺鍍（MagnetronSputtering）"Magnetron"意指"磁化的電子"（MagneticalElectron）i)優點與缺點磁控濺鍍雖會增加濺鍍速率，相對地，亦會加速靶材的損耗。

由于基材與電漿間的距離較大，使基材較遠離電漿可在低的工作溫度進行濺鍍。

ii)操作方法由垂直的電場和磁場的結合組成。

由于電磁的交互作用，促進電子集中于靶材附近，以提升離子化效應。

a)磁場會使負極表面形成電子的聚集處，離子會因受限的電子源的靜電效應而聚集。

b)電子能有效聚集于靶材的表面，使離子化效率提高並提高濺鍍速率。

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