蝕刻| Applied Materials
文章推薦指數: 80 %
skiptomaincontentRegionsChina-简体中文Europe-EnglishIndia-EnglishIsrael-EnglishJapan-日本語Korea-한국어Singapore-EnglishTaiwan-繁體中文UnitedStates-English搜尋表格搜尋搜尋搜尋表格搜尋搜尋半導體產品服務ViewallProducts建立/沉積成形/去除改性分析連接圖案化選擇性製程技術ALDCMPCVDECD磊晶蝕刻離子植入量測與檢驗光罩PVD快速升溫製程處理(RTP)類比化合物半導體微機電系統(MEMS)功率廠房環境解決方案軟
延伸文章資訊
- 1常壓電漿原理 - 馗鼎奈米科技股份有限公司
但現今發展最為成. 熟的電漿技術多在真空製程下進行,而有諸多缺點,如抽真空耗費時. 間、真空設備與維護費昂貴、物品尺寸受限於腔體大小、無法進行線. 上連續 ...
- 2Plasma
電漿. 射頻功率. 暗區. 或. 鞘層. 電極. 至真空幫浦. 陰極. Photo Courtesy: UT Dallas ... 電漿蝕刻. ▫ CF. 4. 氣體在電漿中分解,產生氟自由基以...
- 3國立交通大學機構典藏:電漿製程對超薄氧化層損害效應之研究
電漿製程的損害效應對於超大型積體電路中元件之可靠度之衝擊,已逐漸成為一重要課題。本論文依此而研究電漿蝕刻對元件造成損害效應之評估,分成以下兩部份 ...
- 4第五章電漿基礎原理
電漿基礎原理. 2. 電漿的成分. • 電漿是由中性原子或分子、電子(-)和正電離. 子所構成. 1. 游離率主要決定於電漿中的電子能量. 2. 在大部分的電漿製程反應室中, ...
- 5蝕刻| Applied Materials
蝕刻製程會移除晶圓表面的特定區域,以沉積其它材料。 「乾式」(電漿) 蝕刻是用於電路清晰度步驟,而「濕式」蝕刻(使用化學浴) 主要用於清潔晶圓。 乾式蝕刻是 ...