冷電漿體- 維基百科，自由的百科全書

冷電漿體（英語：cold plasma）是電離率小於10%的電漿體。

其電子溫度遠大於離子溫度，屬於非熱平衡電漿體。

用低溫電漿體可以對材料表面進行改性處理。

冷電漿體 維基百科，自由的百科全書 跳至導覽 跳至搜尋 冷電漿體（英語：coldplasma）是電離率小於10%的電漿體。

其電子溫度遠大於離子溫度，屬於非熱平衡電漿體。

用低溫電漿體可以對材料表面進行改性處理。

[1] 發生技術[編輯] 產生低溫電漿體的手段很多，可用紫外輻射、x射線、電磁場、加熱等方法。

實驗室和工業產品大都採用電磁場激發電漿體，如直流輝光放電、射頻放電、微波放電和介質阻擋放電(DBD)等。

[2] 應用[編輯] 表面處理[3] 製備奈米顆粒 電漿體滅菌 參考文獻[編輯] ^孟月東;鍾少鋒.低温等离子体技术应用研究进展.物理.2006,35(2):140–146. 引文使用過時參數coauthors(幫助) ^任兆杏;丁振峰.低温等离子体技术.自然雜誌.1996,(04). 引文使用過時參數coauthors(幫助) ^陳杰瑢.低温等离子体化学及其应用(PDF).北京:科學出版社.2001[2021-06-23].ISBN 7-03-008225-7.  取自「https://zh.wikipedia.org/w/index.php?title=冷等离子体&oldid=66226470」 分類：電漿體隱藏分類：含有過時參數的引用的頁面 導覽選單 個人工具 沒有登入討論貢獻建立帳號登入 命名空間 條目討論 臺灣正體 已展開 已摺疊 不转换简体繁體大陆简体香港繁體澳門繁體大马简体新加坡简体臺灣正體 查看 閱讀編輯檢視歷史 更多 已展開 已摺疊 搜尋 導航 首頁分類索引特色內容新聞動態近期變更隨機條目資助維基百科 說明 說明維基社群方針與指引互助客棧知識問答字詞轉換IRC即時聊天聯絡我們關於維基百科 工具 連結至此的頁面相關變更上傳檔案特殊頁面靜態連結頁面資訊引用此頁面維基數據項目 列印/匯出 下載為PDF可列印版 其他語言 العربيةDeutschEnglishItaliano 編輯連結