低溫大氣電漿源設計與其在玻璃表面清潔製程之應用

關鍵字: atmospheric pressure plasma;大氣電漿;response surface method;Dielectric ... 林春宏、張加強、陳志瑋，”次世代平面顯示器生產技術應用─常壓電漿”，化合物 ... Skipnavigation 中文 English 中興大學機構典藏NCHUInstitutionalRepository 中興大學機構典藏DSpace系統致力於保存各式數位資料（如：文字、圖片、PDF）並使其易於取用。

NCHUInstitutionRepository 工學院 機械工程學系所 請用此HandleURI來引用此文件： http://hdl.handle.net/11455/1979 標題: 低溫大氣電漿源設計與其在玻璃表面清潔製程之應用DesignofaLowTemperatureAtmospheric-PressurePlasmawithApplicationonGlassSurfaceCleaning 作者: 林博鏞Lin,Po-Yung 關鍵字: atmosphericpressureplasma;大氣電漿;responsesurfacemethod;DielectricBarrierDischarge;反應曲面法;介電屏蔽式輝光放電 出版社: 機械工程學系所 引用: 1.曾煥華，電漿的世界，銀禾文化事業有限公司，1987 2.林春宏、張加強、陳志瑋，”次世代平面顯示器生產技術應用─常壓電漿”，化合物半導體與光電技術，2006年2月 3.A.Sch¨utze,J.Y.Jeong,S.E.Babayan,J.Park,G.S.Selwyn,andR.F.Hicks,”TheAtmospheric-PressurePlasmaJet:AReviewandComparisontoOtherPlasmaSources”,IEEETrans.onPlasmaScience,Vol.26,No.6,pp.1998. 4.G.S.Selwyn,H.W.Herrmann,J.ParkandI.Henins,”MaterialsProcessingUsinganAtmosphericPressure,RF-GeneratedPlasmaSource”,Contrib.PlasmaPhys.Vol6,pp610-619,2001. 5.郭有斌，”微中空陰極陣列常壓電漿與低溫成長碳奈米結構”，成功大學化學工程研究所博士論文，民國92年9月。

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大氣電漿(Airplasma)由於具備不需真空系統、可線上連續作業、成本低等優點，已逐步取代部份的溼式水洗製程。

本研究主要目的在設計一套可使用於平面顯示器製程之大氣電漿源系統，其中電漿生成的方式是利用介電屏蔽式輝光放電(Dielectricbarrierdischarge)搭配RF電源，並選擇氬氣與氧氣作為反應氣體。

在實驗驗證方面則是藉由反應曲面法進行實驗設計，求取電漿源反應之最佳參數，再透過水滴接觸角的量測，以確認本研究提出之大氣電漿源能符合現階段產品表面潔淨度之要求。

多次實驗結果驗證以本研究之大氣電漿源清洗後之基板，其水滴接觸角皆小於10°，符合業界對清潔製程標準之要求，可實際應用於平面顯示器之後段模組製程，取代目前業界普遍使用之國外大氣電漿源設備。

Duetotheincreasingdemandsinhighprecisionandsmalllinewidthonflatpaneldisplay(FPD)device,thecleannessofthewafersurfacebecomesacrucialissueintheFPDindustry.Theatmosphericpressureplasmathatpossessesadvantagessuchasnoneedofavacuumsystem,continuouslyon-lineoperatingfeasibility,andcosteffectivehasgraduallyreplacedsomeofthewatercleaningprocesses.ThemaingoalofthisresearchistodesignandfabricateanatmosphericpressureplasmasourcefortheFPDindustry.Inthisplasmasource,thedielectricbarrierdischargemethodcombinedwitharadiofrequencypowersourcewasadoptedasthepowersourceforplasmaproducing.Thereactiongaseswereargonandoxygen.Theresponsesurfacemethodwasusedtodesignandconducttheexperimentstotesttheperformanceoftheproposedplasmasourceintermsofthecontactangleonthewaferthatwascleanedbytheplasmasource.Theexperimentalresultsillustratedthatthecontactanglesontheplasmacleanedwaferwerelessthan10 URI: http://hdl.handle.net/11455/1979 其他識別: U0005-0408200815380500 顯示於：機械工程學系所 顯示文件完整紀錄   TAIR相關文章 國立交通大學 - / GoogleScholarTM 檢查 在IR系統中的文件，除了特別指名其著作權條款之外，均受到著作權保護，並且保留所有的權利。