中國造出全球首台新式光刻機，不久將一統晶片市場

北京時間11月29日，中國科研機構宣布「超分辨光刻裝備研製」項目通過驗收，成為全球首台用紫外光源實現的22納米解析度的光刻機

據中國《科技日報》報導，中科院光電技術研究所項目副總師胡松透露，新驗收的光刻機，使用了365納米紫外光的汞燈，一隻費用僅為數萬元（1元人民幣約合0.1438美元），而光刻機整機價格在百萬元至千萬元級。

胡松還說，中科院光電技術研究所研製的光刻機加工能力介於深紫外級和極紫外級之間，「讓很多用戶大喜過望」。

光刻機是集成電路製造業的核心角色。

目前，使用深紫外光源的光刻機是主流，成像分辨力極限為34納米，解析度進一步提高要用多重曝光等技術，很昂貴。

光刻機巨頭荷蘭ASML公司壟斷了尖端集成電路光刻機，加工極限為7納米。

ASML的EUV光刻機使用的13.5納米的極紫外光源，價格高達3,000萬元，還要在真空下使用。

而中科院光電技術研究所的光刻機解析度為22納米，擅長加工一系列納米功能器件，包括大口徑薄膜鏡、超導納米線單光子探測器、切倫科夫輻射器件、生化傳感晶片和超表面成像器件。

報導稱，中科院光電技術研究所目前已掌握超分辨光刻鏡頭、精密間隙檢測、納米級定位精度工件台、高深寬比刻蝕和多重圖形配套光刻工藝等核心專利，「技術完全自主可控，在超分辨成像光刻領域國際領先」。

雖然中國科研機構研發出新型光刻機，但荷蘭ASML公司研製的光刻機仍是中國客戶的首選。

今年的5月底，據荷蘭媒體報導，中國晶片巨頭「長江存儲」從ASML訂購的價值7,200萬美元的光刻機運抵湖北武漢。

另日本媒體報導，中國另一家晶片製造企業中芯國際也向ASML公司訂購一台價值1.2億美元的光刻機，預計將在2019年交貨。

繼中興通訊、福建晉華後，據報導，美國考慮制裁中國監控設備巨頭海康威視，切斷晶片供應。

而這會促使中國加快應用國產裝備的步伐。