三星被指侵犯FinFET晶片專利，或面臨最高12億美元賠償

三星最近麻煩不斷，繼因侵犯iPhone設計專利被判向蘋果賠償5.39億美元後，現在三星又被指控侵犯韓國技術學院(Korea Advanced Institute of Science and Technology)的FinFET晶片工藝專利，面臨至少4億美元的賠償。

據悉，三星起初對韓國技術學院的研究不屑一顧，認為該技術只是一種潮流技術。

但在其對手——英特爾公司開始向這項技術的發明者取得許可授權時，圍繞三星是否侵權的力量博弈發生了改變。

隨著晶片產品製程的縮小，鰭片電晶體技術能夠提高晶片性能，同時降低晶片功耗。

另外三星的這項行為被裁定為故意為之，這意味著法官可判決三星支付3倍賠償金，達12億美元。

除三星外，另外兩家晶片製造商——高通公司和GlobalFoundries公司也被發現侵犯了這項專利技術，但它們沒有被告知向韓國技術學院支付任何損害賠償。

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