中國造超分辨光刻機，晶片製造實現了從0到1的歷史性轉變！

說到晶片製造，必然要提到光刻機，它是製造晶片的核心裝備。

一直以來，光刻技術都掌握在日本和少數歐洲國家手中，我國在這方面是短板，時常遭遇國外掐脖子、禁售等各種制約。

今年上半年中興的危機，就是一個很好的警示，只有把技術牢牢抓在自己手中，才不會處處受制於人。

11月29日，我國中科院光電所，花了七年時間，終於不負眾望，研發出了中國人自己的超分辨光刻機，並在成都測試成功。

這台光刻機，採用365納米波長光源，單次曝光最高線寬分辨力22納米，結合雙重曝光技術，未來可用於製造10納米級別的晶片。

也就是說，與荷蘭ASML公司的光刻機相比，這台光刻機，採用截然不同的方式，用波長更長（近紫外）、成本更低（幾萬塊的汞燈）的光源，可以實現更高的光刻分辨力（0.06倍曝光波長），可以說是世界上首台分辨力最高的，紫外超分辨光刻裝備。

這一技術的研發，在原理上突破了分辨力的衍射極限，克服了限制中國晶片製造的一大障礙，還創下了47項國內專利和4項國際專利。

雖然說這一設備，短時間還無法應用於晶片生產，但它成功繞過了國外相關智慧財產權壁壘，取得了從無到有、從0到1的巨大進步！相信用不了多久，中國晶片的研發技術，一定可以趕超其他國家！你們說呢，朋友們？