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根據新華社報導，國家重大科研裝備研製項目「超分辨光刻裝備研製」29日正式通過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到22納米，結合雙重曝光技術後，未來還可用於製造10納米級別...