中科院、上微自主研製成功新型光刻機 有望局部實現國產化替代
日前，中科院光電技術研究所自主研製成功紫外納米壓印光刻機。與此同時，上海微電子也發布了平板顯示光刻機，產品良率高達95%（原本的良率為70%-80%）的高亮度LED光刻機，MEMS和功率器件光刻...
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