氧電漿表面改質
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從第一個階段以氮氣/氧氣混合電漿對 ... 增殖現象。
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[PDF] 國立臺灣師範大學機電科技學系碩士論文指導教授:楊啟榮博士表面粗糙度Ra ≒ 500 nm,為一較粗糙之表面;(3) 應用大氣電漿技術,搭 ... 故目前已在表面改質、光阻之去除、電漿蝕刻、組裝貼合、生醫材料殺菌及 ... 件製作過程首先使用氧電漿清潔氧化矽承載晶圓後,以黃光微影進行晶圓表 ... 4. http:// www.imos.com.tw ... F. Shi, Z. Liu, G. L. Wu et al., "Surface imprinting in layer by- layer.
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