10nm製程良率欠佳!或讓 下半年的iPhone8供應不足!
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這幾年的半導體都技術發展開始陷入困境,製程更新也變得越來越慢。
從intel的22nm製程完成之後,摩爾定律就開始失效,製程更新速度也變得越來越慢。
按照摩爾定律,英特爾在2013年就要推出14nm的處理器,2015年就要退出10nm的處理器。
不過按照目前的情況來看,英特爾的14nm在2015年才開始推出,而10nm製程推遲到今年上半年。
宣稱要在今年量產10nm的半導體晶圓代工廠有台積電、三星和英特爾。
在不久之前,台積電、三星兩家都曝出了10nm製程良率不佳,量產也變得有些尷尬。
在近日,國外財經雜誌Barrons.com爆料稱英特爾在10nm量產的過程中也遭遇了良率不佳的問題。
準備在2017年採用10nm 工藝的廠商非常多,除了英特爾新一代的CannonLake之外,海思麒麟、高通驍龍、聯發科X30等尖端科技科技廠商都將使用10nm工藝,一旦良率不佳,將會導致桌面級、移動處理器的大面積缺貨,甚至引發行業恐慌。
其實在轉進到10nm製程過程中,光刻技術的限制就開始凸顯。
因為目前主流的193nm光刻技術已經走到盡頭,目前只能依賴多重曝光來實現製程工藝的微縮。
雖然這兩年的EUV光刻機開始出貨,不過EUV光刻也只能堅持到5nm製程,再後面要如何繼續更新製程目前還沒有明確的工藝技術。
良率低不僅僅會影響到10nm製程設備的出貨,同時可能會讓7nm乃至5nm製程研發期加長。
為了更好的轉進7nm、5nm,台積電在不斷的探索鍺/三五族材料代替矽等等,甚至在2017年年初購買了5台極紫外光刻機。
新工藝良率低的問題在半導體工業上非常常見,正常上線的尖端光刻工藝良率一般在60%左右,如果低於這個良率,那就有倉促上線的嫌疑了。
不過好消息是距離今年的旗艦iPhone發布還有半年時間,台積電依然有足夠的時間來改進良率低的問題。
而高通則沒有那麼幸運了,因為他們計劃在今年3月出貨10nm處理器,三星的良率低短時間無法解決,將會導致客戶抱怨和錯失市場。
在2017年,英特爾與遭遇了極大的挑戰,AMD的zen架構強勢回歸,讓他們嘗到久違的壓力。
雖然英特爾並不會為此過度恐慌,不過明年他們也勢必要拿出10nm的CannonLake,因為英特爾今年又跳票了10nm工藝。
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