EUV光刻再戰15年 摩爾定律尚未走到盡頭
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【天極網手機頻道】這幾年,摩爾定律開始沒那麼靈光了,於是很多人開始說摩爾定律失效了。
誠然,英特爾在Haswell之後開始放緩了製程更新的腳步,節奏被打亂的他們並不著急,因為他們在製程工藝上依舊領先其他競爭對手。
最近有關於他們要進入晶圓代工代工產業,這對於台積電、三星、格羅方德來說,面臨著更大的壓力。
半導體製造工藝進入10nm之後, Intel多次調整了產品的更新步伐,10nm工藝的產品雖然推遲到2017年年底,這並不代表摩爾定律失效。
不過半導體技術在未來15年會放緩速度,不過並不會徹底死亡。
EUV光刻工藝即將進入應用階段,而負責研發EUV光刻機的ASML公司表示,EUV工藝將會支持未來15年,部分客戶已經在討論2030年的1.5nm工藝路線圖了。
極紫外光雕刻
就在這幾天,ASML公司宣布接到6台新一代極紫光(EUV)微影機的訂單,雖然沒有是哪些客戶。
不過業內人士分析,其中大部分極有可能是台積電,因為他們最製程更新上最為激進。
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